삼성전자가 세계 최초로 모바일 D램에 90나노(㎚) 회로공정을 적용, 512Mb 모바일 D램 양산에 돌입했다고 지난 10일 밝혔다.

모바일 D램은 모바일 기기에서 메인 메모리 역할을 하는 반도체로 초소형, 저전력을 장점으로 하는 모바일 기기에 최적화된 D램으로 기존에는 휴대폰에 주로 사용되었으나, 최근 휴대용 게임기, 디지털카메라, PDA 등 그 수요가 다양화되는 추세다.

삼성전자가 이번에 양산하는 90나노 512Mb 모바일 D램은 올해 1월 개발된 제품으로, 업계 최고 속도 1.3GByte/s와 최대 용량 512Mb을 자랑한다.

한편, 삼성전자는 2003년 세계 최초로 90나노 공정을 낸드플래시 양산에 적용시킨 바 있으며, 지난 달에는
70나노 공정 D램 개발에도 성공, 초 미세 D램 공정기술을 계속적으로 선도하고 있다.